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2007.11.06 17:16
국내 대기업에서 근무할 박사급 연구원 모집
조회 수 14059 추천 수 0 댓글 0
【 자격요건 】
재료 / 화학(공) / 전자 / 기계 관련 전공(경력)자로
박사 학위 졸업자 및 예정자
※ 기판(PCB) 및 반도체, 휴대폰 等 관련 분야(기술) 경력자 우대
업무 분야
▷ HDI (High Density Interconnection)
- Fine Pattern 형성기술 (노광 / 에칭기술)
- Laser source control 기술
- Stacked Via 형성 기술 (Via fill용 특수도금)
- All Layer Build 제조기술
- High Aspect ratio도금기술
▷ BGA (Ball Grid Array)
- Cu 도금 / 회로형성 / 표면처리 기술
- 전도 열 전달 해석 기술
- 열 변형 및 열 응력 해석 기술
- 미세회로(10/10㎛)형성 기술
- 미세 bump print 기술
- Semi Addictive 기술(Laser/ABF/Cu Plating/Litho)
▷ Flip-Chip BGA 분야
- 전자 Packaging 기술
- 반도체 제조 공정 기술
- 전기화학 분야 (도금, Etching)
- 고분자 관련 기술(Dielectric 재료)
- 미세 회로 형성 기술
- 표면처리 및 Bumping 기술
- 반도체 신뢰성 평가 및 Simulation 기술
【 전형절차 】
서류전형 및 면접
【 제출서류 】
이력서 및 자기소개서를 kjhmi@scout.co.kr로 보내주시기 바랍니다.
문의 : 02)2188-6753, 011-9754-0785번으로 문의 바랍니다.
재료 / 화학(공) / 전자 / 기계 관련 전공(경력)자로
박사 학위 졸업자 및 예정자
※ 기판(PCB) 및 반도체, 휴대폰 等 관련 분야(기술) 경력자 우대
업무 분야
▷ HDI (High Density Interconnection)
- Fine Pattern 형성기술 (노광 / 에칭기술)
- Laser source control 기술
- Stacked Via 형성 기술 (Via fill용 특수도금)
- All Layer Build 제조기술
- High Aspect ratio도금기술
▷ BGA (Ball Grid Array)
- Cu 도금 / 회로형성 / 표면처리 기술
- 전도 열 전달 해석 기술
- 열 변형 및 열 응력 해석 기술
- 미세회로(10/10㎛)형성 기술
- 미세 bump print 기술
- Semi Addictive 기술(Laser/ABF/Cu Plating/Litho)
▷ Flip-Chip BGA 분야
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- 반도체 제조 공정 기술
- 전기화학 분야 (도금, Etching)
- 고분자 관련 기술(Dielectric 재료)
- 미세 회로 형성 기술
- 표면처리 및 Bumping 기술
- 반도체 신뢰성 평가 및 Simulation 기술
【 전형절차 】
서류전형 및 면접
【 제출서류 】
이력서 및 자기소개서를 kjhmi@scout.co.kr로 보내주시기 바랍니다.
문의 : 02)2188-6753, 011-9754-0785번으로 문의 바랍니다.
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